半導體光刻膠反應釜防爆模溫機案例

案例介紹

光刻膠是一種高分子化合物，主要用于微電子制造中的光刻工藝在微電子制造中，光刻膠的應用非常廣泛，可以用來制造芯片、光學器件、MEMS(微機電系統) 等微型器件。此案例客戶是半導體材料行業。

案例現場

半導體光刻膠反應釜防爆模溫機案例

選用設備

產品名稱：防爆模溫機

機器型號：EUOCBF

設備功率：6KW

功能配置：整機隔離式防爆 EXdII BT4，PLC編程控制，帶冷卻。

案例特點

反應釜控溫光刻膠，使用溫度需要150度，反應期間會有放熱，所以需要增加冷卻功能，設計1 平方( 板式換熱器 )。